国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病!

 娱乐新闻     |      2018-12-06

  11月29日,中科院研制的“超分辨光刻装备”议定验收。消休传着传着,就成了流言——《国产光刻机远大突破,国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁,曲道超车》《厉害了吾的国,新型光刻机将打破“芯片荒”》……

  中科院研制的这栽光刻机不及(像一些网媒说的)用来光刻CPU。它的意义是用益处光源实现较高的分辨率,用于一些稀奇制造场景,很经济。

  各家媒体第暂时间报出的信休,就吾望到的还算中规中矩。但后来网媒增枝加叶,搞到离谱。有些传播者为吸引眼球、赢利,最喜欢制造“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技收获先去大里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,益卖个骆驼价。

  这栽“科技报道”是已足虚荣心的假音信。内走听了眉头一紧,避之大吉。也难怪许众科学家怕上音信。

  科技不都雅察家

  但安详的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元人民币。请求做事环境厉苛,相符作的光学和死板部件又极端详细,以是荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,创造了“一台卖一亿美金”的神话。

  十几年前,国际上开起对外貌等离子体(surface plasma,SP)光刻法感有趣。中科院光电所从2003年开起钻研,是较早出收获的一个团队。所谓SP,光电所的科学家杨勇向笔者注释:拿一块金属片和非金属片亲昵接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地波动,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。

  为了节能和省硅料,芯片越做越幼,逼得光刻机越做越极端。线条细到肯定水平,投影就暧昧了。要清亮投影,线条粗细不及矮于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,益刻10纳米以下的线条。

  总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事,说前者曲道超车,就相通说中国出了个竞走名将要超越博尔特。

  先注释下:光刻机不只是制造芯片用。一张平面(无论硅片照样什么原料)想刻出繁复的图案,都能够用光刻——就像照相,图像投在感光底片上,蚀失踪一片面。半个众世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,从而有了大周围集成电路——芯片。

  验收会上也有记者问:该光刻设备能不及刻芯片,打破国外垄断?光电所行家回应说,用于芯片必要占有一系列技术难题,距离还很迢遥。

  但这栽电磁波很弱,以是光刻胶得凑近了,才能刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,起码以现在的技术不及。

  笔者正益去中科院光电所旁听此次验收会,写了报道,还算熟识,无法苟联相符些漫无边际的瞎扯。